Технологический маршрут изготовления простейшегоМДП(вентиля с самосовмещенным затвором.
1. Выращивание тонкого подзатворного диэлектрика.


2. Создание p+-охраны.


3. Локальное окисление.


4. Формирование поликремниевого затвора.


5. Ионное n+-легирование через тонкий диэлектрик.


6. Нанесение ФСС и вскрытие контактных окон.


7. Металлизация алюминием.


8. Пассивация.